Фоточувствительность ксерографических пластин определяется скоростью спада электрического потенциала при освещении пластины. Наибольшее распространение в промышленности получили сейчас фотопроводящие слои аморфного селена и окиси цинка в связующем. Другие материалы, применялись лишь в экспериментальных пластинах. Различия в толщине пленок, способах изготовления слоев и их составов вызывают изменение величины фоточувствительности; на эквивалентную фоточувствительность влияет также способ проявления изображения. Для некоторых материалов Можно надеяться, что в недалеком будущем для ксерографии будут созданы новые, более совершенные полупроводниковые материалы. На это указывает большое число патентов, выданных за последние годы, на такие материалы. Во многих лабораториях исследуют способы увеличения фоточувствительности сенсибилизацией красителями и использованием явления квантового усиления.
